多技術電子束光刻系統

靈活性、多功能性和 SEM 成像

eLINE Plus 標志

這種多功能的多技術納米光刻系統將 EBL 系統與用于定制實驗和工藝的開放平臺相結合。eLINE Plus 具有一系列不同的選項,是通用的納米工程 EBL 系統。

先鋒二號標志

EBL-SEM 混合系統將先進的納米光刻和分析 SEM 成像結合在一個工具中。PIONEER Two 定義了一種新型的經濟型專業電子束光刻系統,適用于納米加工和基于 SEM 的分析。